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表征溫度誘導(dǎo)的硅晶片形狀和紋理演變使用Linkam的精密冷熱臺(tái)和Sensofar的Linnik物鏡解決了這些問題，實(shí)現(xiàn)了納米材料3D形貌輪廓的精確測(cè)量本案例研究中，Linkam和SensofarMetrology展示了在為溫控光學(xué)輪廓測(cè)量實(shí)驗(yàn)生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)裝置方面的合作。由于球面像差引起的成像問題，在過去一直是一個(gè)難點(diǎn)工序。使用Linkam的精密冷熱臺(tái)和Sensofar的Linnik物鏡解決了這些問題，實(shí)現(xiàn)了納米材料3D形貌輪廓的精確測(cè)量。我們觀察了硅晶片在20°C到380°C溫度...

對(duì)干式電解拋光工藝的表征在GPAINNOVA，SneoxFiveAxis專門用于量化拋光工藝的質(zhì)量，并說明使用DLyte拋光后樣品粗糙度降低的情況GPAINNOVA正在對(duì)制造團(tuán)隊(duì)得以生產(chǎn)高質(zhì)量金屬表面的方法進(jìn)行改造。DLyte系列機(jī)器基于Drylyte**技術(shù)：這是第一個(gè)干式電解拋光工藝，為業(yè)內(nèi)的金屬合金表面修整提供了解決方案。應(yīng)用范圍從美觀部件打磨、倒圓、去毛刺到表面修勻和高光澤拋光。Sensofar的SneoxFiveAxis使我們能夠采用現(xiàn)有表面修整解決方案達(dá)到最高質(zhì)量...

表征增材制造中的工藝誘導(dǎo)形狀和表面紋理變化使用Sensofar3D輪廓儀，我們可以表征增材制造過程中的單個(gè)參數(shù)如何改變生產(chǎn)出樣品的形狀。我們還可以通過識(shí)別特征粗糙度參數(shù)，對(duì)在不同角度打印的表面進(jìn)行定量區(qū)分。在過去十年中，增材制造因其相對(duì)于傳統(tǒng)減材和等材方法的優(yōu)點(diǎn)而被工業(yè)界采用。對(duì)于創(chuàng)造復(fù)雜幾何形狀來說，增材制造所提供的可能性使用傳統(tǒng)制造方法是無法實(shí)現(xiàn)的。然而，其存在一些缺點(diǎn)，如缺乏標(biāo)準(zhǔn)化、難以控制生產(chǎn)出樣品的尺寸和表面性質(zhì)以及在大多數(shù)情況下需要后續(xù)處理步驟等。在本研究中，我們...

對(duì)通過飛秒脈沖激光加工工藝生產(chǎn)的汽車發(fā)動(dòng)機(jī)缸套進(jìn)行的織構(gòu)形狀評(píng)估Sneox光學(xué)輪廓儀對(duì)于了解激光毛化工藝如何增強(qiáng)缸套部分的功能性能至關(guān)重要。激光加工工藝通過進(jìn)行毛化，產(chǎn)生表面摩擦、觸覺行為、潤濕特性等強(qiáng)化功能性能來開發(fā)設(shè)計(jì)表面。在皮秒和飛秒?yún)^(qū)域中使用超短脈沖持續(xù)時(shí)間的激光加工讓表面毛化具有高度精致的微幾何形狀、邊緣和效果。5軸激光加工使三維部件的無縫毛化能夠具有復(fù)雜的輪廓。SensofarSneox3D光學(xué)輪廓儀已成為MTC表面織構(gòu)開發(fā)的一個(gè)組成部分。在與一家汽車公司進(jìn)行的合...

激光雕刻鋼材嵌件的尺寸分析利用SensofarSwide，我們能夠一次性測(cè)量所有的幾何形狀，并確認(rèn)所有內(nèi)容均在所需的參數(shù)范圍內(nèi)。激光技術(shù)非常適合用于制造模具中的微孔、微流控通道或甚至是強(qiáng)化鋼或硬金屬工具的微銑削。我們使用納秒和飛秒激光來實(shí)現(xiàn)出色的表面質(zhì)量。因此，激光技術(shù)用于功能性紋理，在其中雕刻的納米結(jié)構(gòu)增加了功能性。例如，我們可以創(chuàng)建減少摩擦或增加衍射、捕獲或擴(kuò)散的結(jié)構(gòu)。其他結(jié)構(gòu)可能是超疏水甚至是抗菌的。對(duì)于功能性紋理，超短脈沖持續(xù)時(shí)間的激光，如飛秒激光，有兩個(gè)主要優(yōu)勢(shì)。首...

形態(tài)表面分析用于研究增殖性和毒性處理引起的細(xì)胞存活情況利用形態(tài)測(cè)量學(xué)來確定細(xì)胞形態(tài)的變化，可以被視為篩選潛在藥物和有毒物質(zhì)的一種令人興奮的工具，可以區(qū)分兩種主要的細(xì)胞死亡模式。在細(xì)胞凋亡和壞死過程中，治療的早期階段會(huì)發(fā)生劇烈的細(xì)胞體積變化。從生物物理學(xué)和治療學(xué)的角度來看，區(qū)分這些過程非常重要。細(xì)胞凋亡是一種程序性的細(xì)胞死亡過程，而壞死則是由于環(huán)境干擾而導(dǎo)致的意外死亡。當(dāng)治療引起細(xì)胞凋亡而非壞死時(shí)，往往會(huì)有更好的結(jié)果。此外，細(xì)胞增殖過程會(huì)導(dǎo)致細(xì)胞體積的變化，作為細(xì)胞生長的一個(gè)衡...

維爾戈干涉儀儀器擋板的粗糙度表征Sensofar被選擇執(zhí)行這些測(cè)量任務(wù)，因?yàn)樗麄冊(cè)谶@方面有專業(yè)知識(shí)和易于接觸的特點(diǎn)引力波是時(shí)空織物中的波動(dòng)。當(dāng)重要的宇宙事件如超新星爆炸或黑洞之間的相互作用發(fā)生時(shí)，所產(chǎn)生的引力波可以在地球上被探測(cè)到。經(jīng)過50年的科學(xué)研究和技術(shù)發(fā)展，我們已經(jīng)能夠感知引力波。先進(jìn)維爾戈是一個(gè)巨大的邁克爾遜干涉儀，能夠探測(cè)到引力波（圖1）。它有兩條垂直的長達(dá)3公里的臂，懸掛的鏡子和其他必要的儀器來組成一個(gè)干涉儀。引力波通過懸掛的鏡子的運(yùn)動(dòng)來改變光束的光學(xué)路徑。光學(xué)路...

就地計(jì)量學(xué)用于CMP中的墊面監(jiān)測(cè)感謝Smart2，明確地證明了CMP墊很大程度上都未充分利用，并且在它們有用的壽命還有一半以上時(shí)經(jīng)常被丟棄化學(xué)機(jī)械平面化（CMP）是半導(dǎo)體、硬盤和LED晶片制造行業(yè)的關(guān)鍵過程，用于實(shí)現(xiàn)基板晶片所需的平整度。平面化對(duì)于確保結(jié)構(gòu)內(nèi)多層互連的功能性以及在保持均勻性的同時(shí)減少晶片厚度至關(guān)重要。隨著特征尺寸繼續(xù)縮小和集成級(jí)別繼續(xù)提高，CMP預(yù)計(jì)在未來微電子設(shè)備的發(fā)展中將扮演越來越重要的角色。通過精確控制表面地形和材料屬性，CMP可以實(shí)現(xiàn)新型的設(shè)備架構(gòu)，如...